Szczegóły obiektu: Matryce do składania i odlewania jednolitych wierszy - Grubość matryc i odległości umieszczania linii sygnaturowych - Postanowienia ogólne i zakres stosowania BN-75/7434-03 Arkusz 00
Instytucja dostarczająca:Repozytorium Cyfrowe Politechniki Bydgoskiej
Opis
- Tytuł:
- Twórca:
- Opis:
- Dostępność obiektu:
- Prawa:
- Data:
- Typ:
- Język:
- Wydawca:
- Temat i słowa kluczowe:
- Dostawca danych:
- Czy mogę z tego obiektu skorzystać?:
- Rodzaj zawartości:
Podobne obiekty
Twórca:Krukowski, Jerzy | Ośrodek Badawczo-Rozwojowy Przemysłu Poligraficznego, Warszawa (oprac.)
Data:1976
Rodzaj zawartości:teksty
Twórca:Malinowska, Tekla
Data:1981.12.31 | 1981
Rodzaj zawartości:teksty
Twórca:Centralne Laboratorium Poligraficzne (oprac.)
Data:1969
Rodzaj zawartości:teksty
Twórca:Centralne Laboratorium Poligraficzne (oprac.)
Data:1966
Rodzaj zawartości:teksty
Twórca:Łuczak, Józef
Data:1972.12.31 | 1972
Rodzaj zawartości:teksty
Rodzaj zawartości:teksty
Czy mogę z tego skorzystać?:tak
Dostępność obiektu:Dostęp ograniczony
Twórca:Ramos Guadix, Juan Carlos
Data:2019.12.31 | 2019
Rodzaj zawartości:obrazy
Rodzaj zawartości:teksty
Czy mogę z tego skorzystać?:tak
Dostępność obiektu:Dostęp otwarty