Opis

• Tytuł:
  Three-dimensional microstructures of photoresist formed by gradual gray-scale lithography approach
• Twórca:
  Luo, Ningning;
  Gao, Yiqing;
  Zhimin, Zhang;
  Mengchao, Xiao;
  Huaming, Wu
• Opis:
  Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4, s. 845-852
• Dostępność obiektu:
  Dostęp otwarty
• Prawa:
  Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright);
  Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
• Data:
  2012.12.31;
  2012
• Typ:
  artykuł
• Język:
  angielski
• Źródło:
  <sygn. PWr A3481II>;
  http://aleph.bg.pwr.wroc.pl/F/?func=find-b&request=000122307+&find_code=SYS&adjacent=N&local_base=TUR&x=64&y=13&filter_code_1=WLN&filter_request_1=&filter_code_2=WYR&filter_request_2=&filter_code_3=WYR&filter_request_3=&filter_code_4=WFT&filter_request_4=&filter_code_5=WSB&filter_request_5= ;http://opticaapplicata.pwr.edu.pl
• Format:
  application/pdf
• Wydawca:
  Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
• Relacja:
  Optica Applicata;
  Optica Applicata, Vol. 42, 2012;
  Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4;
  Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
• Temat i słowa kluczowe:
  optyka;
  gradual gray-scale lithography;
  DMD pixel error;
  axicon array;
  microlens array
• Identyfikator: DOI: 10.5277/oa120417
• Dostawca danych:
  Dolnośląska Biblioteka Cyfrowa
• Czy mogę z tego obiektu skorzystać?:
  poproś o pozwolenie
• Rodzaj zawartości:
  obrazy