Opis

• Tytuł:
  Sposób usuwania dwutlenku siarki z gazów odlotowych odprowadzanych z fabryk kwasu siarkowego
• Twórca:
  Anioł, Stanisław;
  Marszałek, Józef;
  Galant, Andrzej;
  Zieliński, Jerzy
• Współtwórca:
  Ziółkowska, Urszula. Rzecznik patentowy
• Opis:
  numer zgłoszenia: 304871;
  data zgłoszenia: 1994-08-31;
  numer publikacji: PL 175117;
  data publikacji: 1998-11-30
• Dostępność obiektu:
  Dostęp otwarty
• Prawa:
  własność autora;
  zasób dostępny bez ograniczeń
• Typ:
  opis patentowy
• Język:
  polski
• Źródło: Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej - Serwer Publikacji
• Format:
  application/pdf
• Wydawca:
  Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
• Relacja:
  Wydział Chemiczny. Politechnika Śląska
• Temat i słowa kluczowe:
  usuwanie dwutlenku siarki;
  dwutlenek siarki;
  gazy odlotowe;
  fabryki kwasu siarkowego;
  kwas siarkowy
• Identyfikator: Baza „Dorobek”
• Dostawca danych:
  Biblioteka Cyfrowa Politechniki Śląskiej
• Czy mogę z tego obiektu skorzystać?:
  tak
• Rodzaj zawartości:
  teksty