Szczegóły obiektu: Optimised magnetron sputtering method for the deposition of indium tin oxide layers
Instytucja dostarczająca:Czasopisma PAN
Opis
- Tytuł:
- Twórca:
- Współtwórca:
- Opis:
- Dostępność obiektu:
- Prawa:
- Data:
- Typ:
- Zakres:
- Temat i słowa kluczowe:
- Identyfikator:
- Dostawca danych:
- Czy mogę z tego obiektu skorzystać?:
- Rodzaj zawartości:
Podobne obiekty
Twórca:Musztyfaga-Staszuk, Małgorzata | Pudiš, Dušan | Socha, Robert | Gawlińska-Nęcek, Katarzyna | Panek, Piotr
Data:2021.11.04
Rodzaj zawartości:obrazy
Twórca:Musztyfaga-Staszuk, Małgorzata
Data:2019.12.31 | 2019
Rodzaj zawartości:teksty
Twórca:Dobrzański, Leszek Adam | Musztyfaga, Małgorzata | Staszuk, Marcin
Rodzaj zawartości:teksty
Czy mogę z tego skorzystać?:tak
Twórca:Socha, Robert
Data:2022.12.31 | 2022
Rodzaj zawartości:obrazy
Twórca:Socha, Robert
Data:2017.03.30
Rodzaj zawartości:obrazy
Twórca:Socha, Robert
Data:2019.05.22 | 2018 | 2019.06.03
Rodzaj zawartości:teksty
Twórca:Panek, Piotr
Data:2011.12.31 | 2011
Rodzaj zawartości:pozostałe
Twórca:Panek, Piotr
Data:2022.12.31 | 2022
Rodzaj zawartości:pozostałe