Opis

• Tytuł:
  System do widmowej analizy promieniowania widzialnego
• Twórca:
  Opilski, Zbigniew;
  Pustelny, Tadeusz;
  Maciak, Erwin;
  Gibiński, Paweł;
  Kubica, Wincenty;
  Woźnica, Tomasz;
  Urbańczyk, Marian;
  Sieroń, Aleksander
• Opis:
  numer zgłoszenia: 382568;
  data zgłoszenia: 2007-06-06;
  numer publikacji: PL 215334;
  data publikacji: 2013-11-29
• Dostępność obiektu:
  Dostęp otwarty
• Prawa:
  własność autora;
  zasób dostępny bez ograniczeń
• Typ:
  opis patentowy
• Język:
  polski
• Źródło: Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej - Serwer Publikacji
• Format:
  application/pdf
• Wydawca:
  Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
• Relacja:
  Wydział Elektryczny. Politechnika Śląska
• Temat i słowa kluczowe:
  onkologia;
  promieniowanie widzialne;
  analiza widmowa
• Identyfikator: Baza „Dorobek”
• Dostawca danych:
  Biblioteka Cyfrowa Politechniki Śląskiej
• Czy mogę z tego obiektu skorzystać?:
  tak
• Rodzaj zawartości:
  teksty