Opis

• Tytuł:
  Sposób modyfikacji warstwy wierzchniej tantalu, niobu i cyrkonu metodą plazmowego utleniania elektrochemicznego
• Twórca:
  Simka, Wojciech;
  Kazek-Kęsik, Alicja;
  Sowa, Maciej
• Współtwórca:
  Borkowy, Katarzyna. Rzecznik patentowy
• Opis:
  numer zgłoszenia: 407485;
  data zgłoszenia: 2014-03-11;
  numer publikacji: PL 225226;
  data publikacji: 2017-03-31
• Dostępność obiektu:
  Dostęp otwarty
• Prawa:
  własność autora;
  zasób dostępny bez ograniczeń
• Typ:
  opis patentowy
• Język:
  polski;
  pol
• Źródło: Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej - Serwer Publikacji
• Format:
  application/pdf
• Wydawca:
  Urząd Patentowy Rzeczypospolitej Polskiej
• Relacja:
  Wydział Chemiczny. Politechnika Śląska
• Temat i słowa kluczowe:
  plazmowe utlenianie elektrochemiczne;
  warstwy wierzchnie;
  tantal;
  niob;
  cyrkon
• Dostawca danych:
  Biblioteka Cyfrowa Politechniki Śląskiej
• Czy mogę z tego obiektu skorzystać?:
  tak
• Rodzaj zawartości:
  teksty