Description

• Title:
  Improvement of the electron beam lithography contact pads fabrication process
• Creator:
  Indykiewicz, Kornelia;
  Paszkiewicz, Regina;
  Paszkiewicz, Bogdan
• Contributor:
  Urbańczyk, Wacław. Redakcja
• Description:
  Optica Applicata, Vol. 46, 2016, nr 2, s. 249-254
• Object availability:
  free access
• Rights:
  Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright);
  Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
• Date:
  2016.12.31;
  2016
• Type:
  artykuł
• Language:
  eng;
  angielski;
  English
• Source:
  <sygn. PWr A3481II>;
  http://aleph.bg.pwr.wroc.pl/F/?func=find-b&request=000122307+&find_code=SYS&adjacent=N&local_base=TUR&x=64&y=13&filter_code_1=WLN&filter_request_1=&filter_code_2=WYR&filter_request_2=&filter_code_3=WYR&filter_request_3=&filter_code_4=WFT&filter_request_4=&filter_code_5=WSB&filter_request_5= ;http://opticaapplicata.pwr.edu.pl
• Format:
  application/pdf
• Publisher:
  Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
• Relation:
  Optica Applicata;
  Optica Applicata, Vol. 46, 2016, nr 2;
  Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
• Subject:
  optyka;
  electron beam lithography (EBL);
  exposition of big areas;
  exposition time optimization
• Identifier: DOI: 10.5277/oa160209
• Data provider:
  Dolnośląska Biblioteka Cyfrowa
• Can I use it?:
  seek permission
• Type:
  image